TSMC gamins „Intel“ procesorius naudodami 3 nm litografiją
„Intel“ planuose vis daugiau lustų gaminti pasinaudojant kitų kompanijų paslaugomis, nes patys jau seniai nebesugeba patenkinti rinkos poreikio. Teigiama, kad TSMC ir „Intel“ sudarė sutartį dėl lustų gamybos naudojant 3 nm litografiją. Pagal TSMC planus 3 nm lustų masinė gamyba startuos 2022 metų antroje pusėje.
„Intel“ kol kas šios informacijos nekomentuoja ir nėra aišku, kokius procesorius gamins TSMC. Greitai „Intel“ generaliniu direktoriumi tapsiantis Pat Gelsinger yra minėjęs, kad kompanijai vis daugiau teks kliautis trečiųjų šalių gamybos pajėgumais. Visiems aišku, kad dabar TSMC yra geriausia vieta gaminti lustus dėl didelės technologinės pažangos. Tą pačią 3 nm litografiją planuoja naudoti ir „Apple“, jų lustų gamyba irgi startuos antroje 2022 metų pusėje.
Loading ...
o tai 5nm tech procesą aplenks?
Žinoma, ir taip kals AMD į vienus vartus. Įsivaizduok, DB 10mm veikia kaip amd 7mm, tai kas bus, kai pereis ant 3? Vapše skris, o AMD jau išspaudė ką galėjo.
Va kokios pranašiškos įžvalgos aplanko, kai padaugini Viktoro vandens
Tai kad technologija vis tiek 10nm. Ar 7 ar 5 ar 3.. vis tiek ten 10nm. Tiesiog TSMC taip vadina savo lustus, bet tai nereiskia, kad ten is tikruju ant waferiu tokia tech stovi.
https://www.pcgamesn.com/amd/tsmc-7nm-5nm-and-3nm-are-just-numbers
TSMC su savo litografijos patobulinimais taiko į grubiai 50% tankumo pagerėjimą. Pvz. 3nm 50% tankesnis už 5nm, kuris savo ruoštu yra grubiai 50% tankesnis už 7nm. Visos šitos litografijos yra skirtingos, ir už 3nm pavadinimo 10nm tikrai nesislepia.
„despite TSMC offering a nominally 7nm process, the general consensus has been that Intel’s 10nm design is pretty much analogous.“ printinimo tarp gate length dizaino prasme tai yra tas pats. Nes toliau kvantine mechanika kisa koja.
Tikro dydžio tyrimai: https://www.world-today-news.com/7nm-transistors-from-amd-are-almost-the-same-size-as-14nm-from-intel/amp/
Painioji absoliutu tranzitoriu dydi su litografijos procesu. Ka SoTOP turejo omenyje, kad nors ir absoliutus tranzistoriu dydis yra panasus, bet tie skaiciai zymi zenkliai skirtingus litografijos procesus, kuriu metu pagaminti tranzistoriai turi zenkliai skirtingas voltamperines ir daznines charakteristikas.
Be to, tas Der8auer tyrimas irgi nera itin tikslus. Dabartiniu litografiju tranzistoriai yra formuojami kaip 3D strukturos, o ten pateiktas tik vienas pjuvis.
kerneli – tai kuo gi skiriasi litografijos procesas 10nm nuo 3nm tada ? Ka turi galvoje sakydamas „lotografijos procesas“ ? Kas jame ten yra 3nm pvz? P.S. As klausiu ne todel, kad nezinau kaip tai vyksta – klausiu, nes jei gaminami tranzistoriai nesumazeja, tai kas tame procese yra 3nm dydzio tada? Kad nesumazeja tai faktas, nes vienu 14nm procesas pagamina ta pati ka kitu 7nm – tranziztoriu dydis 10-14nm vis tiek. Ir TSMC taip pat sako, kad 5nm ir 3nm procesas irgi nepagamins tokio dydzio tranzistoriu ir patys pripazista, kad cia marketinginiai pavadinimai idant neapgaudineti zmoniu. Tai velgi – kas tada tame procese yra 3nm dydzio? Tai jei tokio dydzio nera, tai vadinas tai teisiog pavadinimas. O kad pagaminami su skirtingom fizikinem savybem tranzistoriai tai taip – procesas tobuleja, tarp-tranzistorine medzaiga, izoliacine medziaga viskas gerinama, bet tranzistoriai nemazeja. Ir del kvamtumo efekto jie negales buti mazesni nei 5-7nm isvis – jau ir su tuo dydziu intel turi problemu nes neina pagamint izoliacinio sluoksnio kad nesokinetu kvantiniam lygy elektronai. https://en.wikipedia.org/wiki/Semiconductor_device_fabrication
Aš tau jau atsakiau į daugumą šitų tavo klausimų. Kad TSMC 3nm litografijoje nėra nieko, kas būtų tikro 3nm dydžio tai visiškai nereiškia, kad tranzistoriai tokie patys, kaip dabar esantys pvz. 7nm tech. procese, kaip tu teigi. Tranzistorių mažėjimas yra sulėtėjęs, bet vienas dalykas – jis vis tiek yra ir antras dalykas, kad gamintojai dabar pradeda optimaliau juos talpinti. Kaip jau sakiau, TSMC savo dabartines litografijas vadina pagal tankumą, ne pagal tranzistorių dydį. Taip yra todėl, kad tranzistorių dydis jau seniai nebėra vienintelis kriterijus apibrėžiantis litografijos gerumą, ir dėl to kaip tu pats sakai su praktiškai vienodo dydžio tranzistoriais TSMC 7nm yra daug geresnis už Intel 14nm.
Aha, su situo sutinku 😉 All good.