„Intel“ atskleidė 2019-2029 metų savo litografijos planą

„Intel“ atskleidė savo sekančio dešimtmečio procesorių gamybos techproceso planą. Pateiktas planas atrodo labai optimistiškai, nes „Intel“ per dešimt metų ruošiasi įvaldyti 1,4 nm litografiją. Žinant esamą situaciją su 10 nm, toks planas atrodo sunkiai įgyvendinamas, bet gal „Intel“ gamybos bėdos jau praeityje.

Naujame litografijos plane matome, kad „Intel“ žada 7 nm EUV gamybos metodą įvaldyti jau 2021 metais. Kiekviena nauja litografija turi sulaukti dviejų patobulinimų, o tada turi būti pereinama prie pažangesnio techproceso. Jei planas bus vykdomas, tai 2029 metais „Intel“ procesoriai jau būtų gaminami naudojant 1,4 nm litografiją.